Bonjour à tous .

Je fais actuelement des recherches sur un procédé industriel nommé ALD (atomic layer deposition ) ce procé dé permet entr autre de faire du dopage d'éléments d'oxydes et de sylicates dans le but d'ameliorer les IPCE (Incident-Photon-to-electron Conversion Efficiency)de photoanodes .je cherchais des infos sur le sujet et j'ai trouvé pleins de pages où il était question de N-doped anatase (l'anatase étant en fait de l'oxyde de titane (TiO2)). Je voudrais savoir comment interpreter le "N" , s'agit-t-il de dopage de type n (éléctron en surnombre ) ou alors de dopage avec un atome d'azote (N) ???

Merci de votre réponse.

Edit Coll : forum modifié ; initialement posté au niveau Supérieur-licence